Вольфрамовый лист 0,5х185х660 мм В-МП в Казани

Производство вольфрамового листа толщиной 0.3 мм регулируется международными стандартами, такими как ASTM B760. Этот стандарт устанавливает требования к размерам, допускам, химическому составу и механическим свойствам для вольфрамовых плит, листов, полос и фольги.

Промышленные стандарты предусматривают требования к температуре отжига вольфрамового листа (например, 1000-1400°С для снятия напряжений или 1500-2000°С для рекристаллизации). Также указываются время выдержки и тип атмосферы (вакуум, водород или инертный газ) для достижения требуемой микроструктуры.

Лист ВД хорошо противостоит инертным и восстановительным высокотемпературным газовым потокам (аргон, водород) за счет химической инертности. Однако в окислительных средах или при наличии галогенов требуется защита или использование специальных покрытий из-за образования летучих соединений.

Пластичность листа ВА значительно возрастает при нагреве до 1800°С. Эта температура превышает температуру хрупко-вязкого перехода вольфрама, что позволяет проводить эффективную высокотемпературную формовку и обработку материала.

Преимущества применения вольфрамового листа в качестве мишеней для ионной имплантации заключаются в его высокой плотности, высоком атомном номере и высокой температуре плавления. Эти свойства обеспечивают эффективное торможение ионов, минимизируют распыление и позволяют работать с высокими токами.

Вольфрамовый лист используется в защите от ионизирующего излучения благодаря его высокой плотности и высокому атомному номеру. Эти свойства обеспечивают эффективное поглощение рентгеновского и гамма-излучения, применяясь в медицинском оборудовании и ядерной энергетике.

Вольфрамовый лист встречается в экспериментальных установках, требующих сверхвысоких температур, таких как токамаки (для футеровки первой стенки), высокотемпературные вакуумные печи для синтеза материалов и установки для исследования плазмы.